Кинетика экспонирования слоя позитивного фоторезиста на оптически согласованной подложке

Обложка

Цитировать

Полный текст

Открытый доступ Открытый доступ
Доступ закрыт Доступ предоставлен
Доступ закрыт Только для подписчиков

Аннотация

Проведен анализ ряда работ, посвященных моделированию процесса экспонирования фотоактивного слоя, лежащего на оптически согласованной подложке. Показана связь уравнений Дилла с ранее полученными системами уравнений. Последовательно рассмотрены способы сведения системы двух уравнений Дилла в частных производных к обыкновенным дифференциальным уравнениям, точность численного решения которых можно легко контролировать. Предложена процедура использования таких уравнений для характеризации фотохимических свойств позитивных фоторезистов.

Полный текст

Доступ закрыт

Об авторах

В. П. Кудря

Национальный исследовательский центр “Курчатовский институт”

Автор, ответственный за переписку.
Email: kvp@ftian.ru

Физико-технологический институт им. К.А. Валиева РАН

Россия, Москва

Список литературы

  1. Технология СБИС. Кн. 2. Под ред. С. Зи. М.: Мир. 1986. 453 с. [VLSI Technology. Edited by S. M. Sze. McGraw-Hill Book Company, New York, 1983]
  2. Wegscheider R. Beiträge zur photochemischen Kinetik // Zeitschrift für Physikalische Chemie. 1922. V. 103. No. 1. P. 273–306. https://doi.org/10.1515/zpch-1922-10318
  3. Herrick C.E. The Sensitometry of the Positive Diazotype Process // Journal of the Optical Society of America. 1952. V. 42. No. 12. P. 904–910. https://doi.org/10.1364/JOSA.42.000904
  4. Herrick C.E. Solution of the Partial Differential Equations Describing Photodecomposition in a Light-absorbing Matrix having Light-absorbing Photoproducts // IBM Journal of Research and Development. 1966. V. 10. No. 1. P. 2–5. https://doi.org/10.1147/rd.101.0002
  5. Dill F.H., Neureuther A.R. Machining integrated optical structures in photoresist // IEEE Transactions on Electron Devices. 1973. V. 20. No. 12. P. 1173–1173. https://doi.org/10.1109/T-ED.1973.17826
  6. Neureuther A.R., Dill F.H. Photoresist modeling and device fabrication applications // Proceedings of the Symposium on Optical and Acoustical Microelectronics. Microwave Research Institute Symposia Series. 1975. V. 18. P. 233–249.
  7. Dill F.H., Hornberger W.P., Hauge P.S., Shaw J.M. Characterization of positive photoresist // IEEE Transactions on Electron Devices. 1975. V. 22. No. 7. P. 445–452. https://doi.org/10.1109/T-ED.1975.18159
  8. Dill F.H., Neureuther A.R., Tuttle J.A., Walker E.J. Modeling Projection Printing of Positive Photoresists // IEEE Transactions on Electron Devices. 1975. V. 22. No. 7. P. 456–464. https://doi.org/10.1109/T-ED.1975.18161
  9. Арушанян О.Б., Залёткин С.Ф. Численное решение обыкновенных дифференциальных уравнений на Фортране. М.: Изд. МГУ. 1990. 336 с.
  10. Dill F.H., Tuttle J.A., Neureuther A.R. Limits of optical lithography // International Electron Devices Meeting. 1974. P. 13–16. https://doi.org/10.1109/IEDM.1974.6219620
  11. Хемминг Р.В. Численные методы для научных работников и инженеров. М.: Наука. 1968. 400 с. [Hamming R. W. Numerical Methods for Scientists and Engineers. McGraw-Hill Book Company, New York, 1962]
  12. Краснов М.Л. Обыкновенные дифференциальные уравнения. М.: Высшая школа. 1983. 128 с.

Дополнительные файлы

Доп. файлы
Действие
1. JATS XML
Скачать
2. Приложение
Скачать (150KB)
Метаданные

© Российская академия наук, 2025